近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）正式将其华中总部落户于武汉光谷，并已完成项目公司的注册，预计于2027年初正式投入运营。
根据官方信息，新成立的项目公司为“中微半导体设备（武汉）有限公司”，已于2026年7月28日完成注册，注册资本为5000万元人民币。该公司将入驻光谷存算双创园，主要聚焦于核心半导体设备的研发工作，具体包括薄膜、刻蚀、外延等设备的研发，旨在服务武汉及华中地区的重点客户。在人员规划方面，该华中总部预计将吸引约300名员工，其中研发人员数量将达到100人。
据“中国光谷”发布的消息，中微公司自2004年成立以来，已开发出54种高端半导体设备，其刻蚀设备技术能力覆盖从65纳米到3纳米的工艺节点，刻蚀和薄膜设备的加工精度已达原子级水平。公司累计已有超过8800个反应台在国内外220余条生产线上实现量产。在财务表现上，中微公司于2025年实现营收约123.8亿元，创造了历史新高，并规划未来整体生产能力将提升至700亿元。
此次中微公司选择落户的武汉光谷，是全国四大集成电路产业基地之一。目前，光谷已集聚产业链相关企业超过300家，形成了覆盖芯片设计、材料、制造到封装测试的完整产业链条。根据“中国光谷”信息，光谷在2025年实现了集成电路产业规模突破千亿元，正通过成立产业发展专班等方式，加速建设化合物半导体、存储器两个千亿级产业创新街区，以构建世界一流的集成电路产业生态。
